專利規避設計

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　　專利規避設計是指為規避專利保護範圍來修改現有機構設計，在設計思路上重於如何利用不同之構造來達成相同之功能，避免觸犯他人權利。

　　專利規避設計是一項源於美國的合法競爭行為。最初專利規避設計只是當做專利系統工作的一種方式， 旨在鼓勵發明和促進大眾文化的進步。SCHECHTER將專利規避設計定義為企業為了避開其他競爭者公司的專利權利要求的阻礙或者襲擊而進行的新設計繞道發展的設計過程。專利規避由法律、專利策略等方面的規避已經轉化為規避設計，通過重新對技術方案的改進來實現與現有專利的保護範圍不同的新技術。

　　專利規避最初的目的是從法律的角度來繞開某項專利的保護範圍以避免專利權人進行侵權訴訟，專利規避是企業進行市場競爭的合法行為pJ。因此首先對專利規避設計的實施方法做出回應的多源於法律學者，並隨著專利糾紛案件的不斷積累，總結與歸納出了相應的組件規避原則，主要是從刪除、替換、更改以及語義描述的變化等方面進行專利規避。實際應用中專利規避設計可遵循的三點原則：

　　① 減少組件數量以滿足全面覆蓋原則；

　　② 使用替代的方法使被告主體不同於權利要求中指出的技術以防止字面侵權；

　　③ 從方法／功能／結果上對構成要件進行實質性改變，以避免侵犯等同原則。

　　專利規避設計原則是從侵權判斷的角度進行分析，根據權利要求書分析專利的必要技術特征，對其進行刪減和替代， 以減少侵權的可能性。專利規避設計原則是巨集觀層面上的指導方針，對設計人員來說，需要具體可以實施的過程來詳細指導如何在現有專利技術基礎上進行重組和替代，開發出新的技術方案繞開現有專利的保護範圍。功能裁剪作為有效的分析工具能夠指導設計人員進行技術分析，並結合專利規避設計原則選擇合理的技術進行刪除或替代，從根本上突破現有專利的技術壟斷。